Laboratório de processamento físico-químico

  • Perfilômetro NanoMap modelo 500LT

      Pesquisadora manipulando perfilômetro NanoMap modelo 500LT
      • Descrição: Perfilômetro mecânico possui pontas de 2 um, 5 um, 12.5 um e 25 um de raio de curvatura e resolução de 0,1nm(Z) e 0,1 um XY. Executa as medições críticas de filmes tais como: espessura e rugosidade de superfície em nível nanométrico, necessárias em microeletrônica, semicondutores, células solares, LEDs, área médica, e pesquisa em materiais. Possui aproximação de amostra de pontas e amostras automaticamente podendo varrer amostras de até 150x150x1,5mm com 1 milhão de pontos gerando mapas 2D e 3D das amostras.
      • Ano de fabricação: 2013
  • Impressora jato de tinta para materiais orgânicos - Dimatix modelo DMP-28

      Pesquisadora manipulando Impressora jato de tinta para materiais orgânicos -  Dimatix modelo DMP-28
      • Descrição: Permite a deposição localizada de tintas funcionais orgânicas e biológicas visando geração de padrões para prototipagem de dispositivos. Utiliza cartucho piezo elétrico descartável de jato de tinta com capacidade de 1,5mL. Esta impressora pode criar e definir padrões numa área de cerca de 200 x 300 mm, em substratos de até 25 mm de espessura, com uma altura Z ajustável. A mesa de trabalho a vácuo, para fixação do substrato, pode ter temperatura ajustada até 60°C.
      • Ano de fabricação: 2007
  • Impressora jato de tinta para materiais metálicos - Dimatix modelo DMP-28

      Pesquisadora manipulando impressora jato de tinta para materiais metálicos -  Dimatix modelo DMP-28
      • Descrição: Permite a deposição localizada de tintas funcionais de precursores metálicos visando geração de padrões para prototipagem de dispositivos. Utiliza cartucho piezo elétrico descartável de jato de tinta com capacidade de 1,5mL. Esta impressora pode criar e definir padrões numa área de cerca de 200 x 300 mm, em substratos de até 25 mm de espessura, com uma altura Z ajustável. A mesa de trabalho a vácuo, para fixação do substrato, pode ter temperatura ajustada até 60°C.
      • Ano de fabricação: 2009
  • Evaporadora térmica alto vácuo Edwards modelo EV400

      Pesquisadora manipulando evaporadora térmica alto vácuo Edwards modelo EV400
      • Descrição: O sistema de deposição a vácuo EV400 é fabricado pela Gera LTDA. Possui planetário para acomodação de até 3 wafers de 4" com variação de uniformidade de 2,5% entre centro e borda. Possuem dois suportes para cadinhos metálicos para evaporação de materiais. A pressão base situa se em 5.0E-7Torr sendo normalmente utilizada para deposição de filmes de finos metálicos de Cr, Cu, Au, Al, Ag, Ti, dentre outros.
      • Ano de fabricação: 2013
  • Sistema de glovebox com spinner e evaporadora térmica orgânica/ inorgânica integrados em atmosfera inerte Mbraun modelo LAB master sp

      Pesquisadora manipulando sistema de glovebox
      • Descrição: O sistema de atmosfera inerte (glovebox) possui duas câmaras sendo uma equipada com spinner para deposição de materiais em solução, preparação e testes de amostras e outra equipada com sistema de deposição térmica a vácuo com 6 fontes para materiais orgânicos/inorgânicos. Ambas possuem sistema para controle e purificação de umidade para operação na faixa de 0,1 ppm de H₂O e 50 ppm de O₂.
      • Ano de fabricação: 2011
  • Sistema de Deposição por Spray ultrassônico Sonotek modelo ExactaCoat

      Visão geral do sistema de Deposição por Spray ultrassônico Sonotek modelo ExactaCoat
      • Descrição: O sistema de spray ultrassônico permite a deposição de materiais em solução e dispersões por meio de uma cabeça que opera em 3 eixos programáveis e é ideal para aplicação de revestimentos por pulverização ultrasônica de precisão em escala de laboratório. O porta amostras com vácuo e aquecimento (máx. 100 °C) pode acomodar substratos de até 400mmx400mmx100mm (15,75" x 15,75" x 3,94") com precisão e repetibilidade de até ± 2%. O software de controle permite importação de imagens e padrões.
      • Ano de fabricação: 2009
  • Processamento térmico rápido (RTP) Allwin21 modelo AccuThermo AW 61

      Pesquisadora manipulando equipamento Allwin21 modelo AccuThermo AW 61
      • Descrição: RTP utiliza radiação visível de alta intensidade proveniente de lâmpadas halógenas para aquecer wafers e substratos planos. O porta amostras de quartzo pode acomodar wafers de até 6"x 3mm por períodos de duração de 1 a 9999 segundos sob temperaturas de 100 a 1250 °C. Está configurado para até 6 linhas de gáses intertes ou reativos (Ar, N2, O2, NH4, e duas linhas reservas).
      • Ano de fabricação: 2011