Litografia

  • Alinhadora de máscara por contato UV400 Karl Suss Modelo MJB3

      Pesquisador visualizando alinhadora de máscara por contato UV400  Karl Suss Modelo MJB3
      • Descrição: A fotoalinhadora de máscara é usada em fotolitografia para transferir padrões. O modelo MJB3 oferece iluminação frontal para litografia de contato e o alinhador está equipado com uma lâmpada de arco de mercúrio de 350 watts que aplica uma intensidade de ~ 20 mW/cm² no comprimento de onda de 405 nm.
      • Ano de fabricação: 2001
  • Sistema de Litografia direta a Laser UV Heidelberg Instruments modelo DWL-66FS (DWL)

      Visão panorâmica do sistema de Litografia direta a Laser UV Heidelberg Instruments modelo DWL-66FS (DWL)
      • Descrição: O sistema de litografia a laser DWL 66FS é um gerador de padrões de alta resolução para criação de máscaras de baixo volume e escrita direta. Os recursos e a flexibilidade desse sistema permitem usar essa ferramenta de pesquisa em MEMS, BioMEMS, Micro Optics, ASICs, Micro Fluidics, Sensores, CGHs e todas as outras aplicações que requerem microestruturas. Pode ser usado para fazer máscaras ou exposição direta sobre basicamente qualquer material plano revestido fotoresiste.
      • Ano de fabricação: 2011
  • Copiadora de máscaras por UV Tamarack Série 155

      Pesquisador trabalhando na copiadora de máscaras por UV Tamarack Série 155
      • Descrição: Copiadora de máscaras por exposição de contato e proximidade com carregamento manual e alinhamento de substratos quadrados de 4, 8 e 12 polegadas. A impressora de contato a vácuo Tamarack 155 é usada para produzir uma cópia de uma máscara numa proporção de dimensionamento de 1: 1.
      • Ano de fabricação: 1995